Secador Plasma Gamma+, el poder del Oxígeno Activo.
Secador Plasma Gamma+, el poder del Oxígeno Activo.
El Secador Plasma Gamma+ Italia incorpora una tecnología que incorpora una lámpara de rayos UV que activa el aire y lo transforma en Oxígeno Activo.
¿Pero qué beneficios obtiene mi cabello con el Oxígeno Activo que genera el secador Plasma de Gamma+ Italia?
Mejoras en tu cabello con el Oxígeno Activo:
1- El Oxígeno Activo actúa en las moléculas del tinte mejorándolo, lo hace más estable y duradero en el tiempo. Vas a notar como tu tinte dura más.
2- Cierra más rápidamente las cutículas lo que permite una mayor protección de la estructura interna del cabello ante el calor y agentes externos. El cabello se ve más brillante y luminoso.
3- Mayor protección de la estructura interna del cabello ya que el proceso de oxidación que produce el Oxígeno Activo destruye la cápsula bacteriana y mejora el metabolismo de la epidermis facilitando la restructuración natural de la misma. Acción antibacteriana.
Otro punto a destacar del secador Plasma Gamma+ Italia es su generador de iones negativos con interruptor que podemos activar o desactivar.
Activando o desactivando el generador de iones del secador Plasma Gamma+ tenemos el poder para conseguir el resultado que deseamos en el cabello:
1- Con el botón de iones en modo "ION" conseguimos un cabello hidratado, liso y sin electricidad estática.
2- Con el botón de iones en modo "O" obtenemos más volumen y consistencia.
Todos estos beneficios del secador Plasma de Gamma+ Italia están probados científicamente. Los ensayos de evaluación se han realizado por Biomedical s.r.l centro biomédico de dermatología y tricología.
Sin duda el secador Plasma de Gamma+ Italia es una buena opción para cualquier Salón preocupado por ofrecer las mejores opciones de cuidado para el cabello de sus clientes.
En kissbel somos distribuidores de Gamma+ Italia en España y ofrecemos todos los recambios y servicio técnico en caso de problemas con tu secador Gamma+.
Más detalles del secador Plasma Gamma+ AQUI.
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